目前主要的顯示器件有CRT（陰極射線管）、TN/STN-LCD（扭曲/超扭曲液晶顯示器）、TFT-LCD（薄膜晶體管液晶顯示器）、FED（場發射顯示器）、VFD（真空熒光顯示器）、OLED（有機發光顯示器）和PDP（等離子顯示器）。人們日常生活、工作中的大屏幕電視、計算機顯示器、筆記本電腦、手機、數碼相機、數碼攝像機等終端產品無一不是上述顯示器件的應用。而生產制作顯示器件需要的關鍵材料之一即為“高精度的玻璃掩膜版（wafer）”,掩膜版的主要基礎材料為石英玻璃或蘇打玻璃，石英玻璃或蘇打玻璃經過精密加工后表面鍍覆光刻曝光用膈膜。目前國際上光掩模基板的制造技術主要是日本、韓國、中國臺灣處于領先地位，近兩年來我國部分企業在跟蹤國際現金技術的前提下，在各地政府的高調支持下已逐步建成自主知識產權的光掩模基板生產線。現階段玻璃精密加工技術、鍍膜、光刻技術已接近國際先進技術，但在關鍵基礎材料----石英玻璃的制備方面與國際先進水平尚有一定距離，高純度（SiO2含量99.9999%以上）、小尺寸（8in（lin=2.54cm）、200*200mm以下）可自主生產，大尺寸的石英玻璃基板制備處于落后狀態，仍需依賴進口，而在生產光掩模基板的整個過程匯總玻璃基片所占的比例為70%。
目前國內已可規模化生產的應用于液晶顯示器（LCD）、有機電致發光顯示器（OLED）、等離子體顯示板（PDP）等平板顯示（FPD）行業和集成電路（IC）及其封裝（ICP）等行業鉻板掩膜版有：
1、 TFT、彩色STN、STN和TNLCD鉻板掩膜版；
2、 EL、OLED鉻板掩膜版
3、 PDP、VFD鉻板掩膜版
4、 IC封裝、HDI，包括BGA、CSP、BUMPING等生產用鉻板掩膜版
5、 IC Lead Frame用鉻板掩膜版
6、 MEMS、SENSOR和ENCODER等精細電子元器件用鉻板掩膜版。
玻璃基片所用材料由所生產的顯示器的種類、規格尺寸決定，主要有兩種：石英玻璃和蘇打玻璃。一般小尺寸、高分辨率的用石英玻璃，大尺寸、分辨率要求低的用蘇打玻璃。而石英玻璃基片通常需要采用SiCl4合成法熔煉的高純、高均勻合成石英玻璃。
在規格尺寸方面，國際上已有通用標準，如標準“Square型”；2500型即為63.1*63.1*1.5mm、6025型為152*152*6.35mm、7012型為177.4*177.4*3.05mm。標準“Square型”：P7015型為D184.15*L177*T3.8mm、P7025型為D184.15*L177*6.35mm。
在外觀表面缺陷方面，基片對材質及加工質量要求非常高，需要在暗室使用50000Lm照度下進行檢測，不允許有下列缺陷：裂紋、面凹坑、不透明雜質、氣泡、條紋、凸棱、切割缺陷、擦傷及其他任何不能100%清除的污染等。
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